A vákuumkamra kémiai polírozása

A vákuumkamra kémiai polírozása

A kémiai polírozás célja, hogy az anyag felületének mikroszkopikusan kiálló részét a kémiai közegben előnyösebben oldják fel, mint a homorú részt, így sima felületet kapnak. Ennek a módszernek az a fő előnye, hogy nem igényel bonyolult berendezést, összetett formájú munkadarabot tud polírozni, és egyszerre több munkadarabot is tud nagy hatékonysággal polírozni. A kémiai polírozás fő problémája a polírozó folyadék előállítása. A kémiai polírozással kapott felületi érdesség általában 10 μm.

IKS PVD cég, dekoratív bevonógép, szerszámbevonó gép, DLC bevonógép, optikai bevonógép, PVD vákuumbevonatoló sor, a kulcsrakész projekt elérhető. Lépjen kapcsolatba velünk most, e-mail: iks.pvd@foxmail.com