PVD technológia négy folyamatlépés
Apr 06, 2020| PVD technológia négy folyamatlépés (1) a munkadarab tisztítása: az egyenáramú tápegységre helyezése, argon-izzó kisülés argon-ionként, a munkadarab felületének argon-ion bombázása, a munkadarab felületi részecskéi és piszkos részei dobtak ki; (2) a bevonó anyag gázosítása: azaz váltakozó áram bevezetése után a bevonó anyag párologtatása. (3) a bevonó anyagionok migrációja: az ütközés és a nagyfeszültségű elektromos mező után az atomok, molekulák vagy ionok a gázképző forrásból nagy sebességgel rohantak a munkadarabhoz; (4) A lemezes anyag atomjai, molekulái vagy ionjai lerakódnak a hordozóra: amikor a munkadarab felületén lévő párolgási anyagionok meghaladják a kiömlött ionok számát, fokozatosan felhalmozódnak, és olyan rétegréteggé alakulnak, amely szilárdan tapad az anyag felületéhez. munkadarabot. Az ionbevonás részecskeionizálása után a párolgási anyagnak három ezer és ötezer elektronvolta közötti kinetikus energiája van, nagysebességű bombázási tárgyak, nemcsak a berakódási sebesség gyors és képes behatolni a felületbe, mélyen képezve a mátrix diffúziós rétegét. , az ionbevonat interfész diffúziós mélysége négy-öt mikron, azaz a szokásos vákuumbevonat diffúziós mélysége több tucat, akár százszor is mély, és olyan gyorsan tapadnak egymáshoz.
IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd. ， Kínából származó PVD vákuumbevonó gép gyártója, fő termékünk: dekoratív bevonatú mahcine, szerszámbevonó gép, optikai bevonó gép, PVD bevonatos vonal. További részletek, kapcsolat: iks.pvd@foxmail. com