A PVD Nanocoatings jellemzői
May 22, 2019| A PVD nanoconatings jellemzői
A nano-bevonatok fizikai gőz-lerakódásának három alapvető módszere van: vákuum elpárologtatás, porlasztás és ion-lerakódás. A vákuum elpárologtatása a forrásanyagot részecskékké (atomok vagy ionok) való elpárologtatása elektron sugárzással, lézeres fűtéssel stb. és ezután a munkadarab felületére helyezzük, hogy bevonatot képezzünk. A bevonat viszonylag nagyobb pórusokkal rendelkezik, amely általános tapadást mutat a hordozóval. A porlasztásos bevonat a munkadarabot anódként és a célként katódként veszi. Az argon ionizálással előállított argoniont a cél atomok kiürítésére és a munkadarab felületére történő lerakására használjuk. A bevonat kevésbé pórusokkal rendelkezik, és jól illeszkedik a hordozóhoz. Az ionbevonás az anyagot atomokké párologtatással, porlasztással vagy kémiai módszerekkel állítja elő, és a szubsztrát körüli plazma ionizálja. Az elektromos tér hatására a bevonatot úgy képezzük, hogy nagyobb kinetikus energiával a hordozóra szállítjuk. A bevonat egyenletes és sűrű, alapvetően nincs pórusokkal és jól kombinálva a szubsztrátummal.
A titán-oxid nanofilmeket DC mágneses szórással készítettük. A porlasztó kamra nyomását 1,3-10-4 Pa-ra pumpáltuk, majd Ar, O2 és CF4-gyel töltöttük, az össznyomás 1,3pa volt (az injektálás mennyiségét a permetezés során szabályoztuk). A fólia vastagsága állandó sputterezési feszültségen (700 v) keresztül történik, hogy megváltoztassa a szabályozó porlasztási körülményeit, a permetezési idő alaplemez hőmérsékletének szabályozását 100 ~ 400 ° C-on . Az elektrokróm tulajdonságokat LiC1O4-ben és propilén-karbonátban találtuk. A filmfelületet azonban gáz és töltött részecskék befolyásolják, és a film teljesítményét nagymértékben befolyásolja a plazmaállapot, és a porlasztási körülményeket nem könnyű szigorúan ellenőrizni, ami szintén a legnagyobb hátránya.
A nano bevonat minőségének további javítása érdekében különböző fejlett PVD technológiákat fejlesztettek ki és származtak a különböző technológiák kombinációjával. A mágneses tér bevezetésével a mágneses teret az elektromező által dominált mágneses teret dolgozták ki. A filmképzés kémiai folyamatának erősítése érdekében a párologtatás, a porlasztás és az ionbevonás folyamatában reaktív gázt vezettek be, így a reaktív párolgási technológia, a reaktív porlasztási technológia és a reaktív ionbevonási technológia jött létre. Emellett léteznek impulzus lézeres lerakódások (PLD), magnetronos porlasztás (MSPLD), ionizált mágneses permetezés (ionizált magnetron sputterezés), molekuláris gerenda epitaxis (MBE), migrációs növekedés és más új membrán technológia.
Látható, hogy a tudomány és a technológia fejlődésével a CVD és a PVD közötti határ nem egyértelmű, és a kettő egymásra hat, így a két bevonat előkészítési technológiája tökéletesebbé válik.
IKS PVD ， dekoratív bevonógép ， szerszámbevonó gép ， kapcsolat ： iks.pvd@foxmail.com
