Vegyi gőzleválasztás (CVD)

kémiai gőzleválasztás (CVD)

A kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) egy eljárás fém- vagy összetett filmek kialakítására a szubsztrátum felületén gázkeverékek kölcsönhatása révén a hordozó felületével egy bizonyos hőmérsékleten.
A kémiai gőzlerakódás jellemzői a következők: sokféle üledék létezik, amelyek üledékes fémekre, félvezető elemekre, karbidokra, nitridekre, boridokra stb. oszthatók. És szabályozhatják a film összetételét és kristályformáját egy nagy méretben. hatótávolság; Egyenletesen bevonja az összetett alkatrészek geometriai alakját; A leválasztási sebesség gyors, a filmréteg sűrű, és a mátrix szilárdan kötődik; Könnyen elérhető tömeggyártás.
Jó kopásállósága, korrózióállósága, hőállósága, valamint elektromos, optikai és egyéb speciális tulajdonságai miatt a kémiai gőzleválasztó fóliát széles körben használják a mechanikai gyártásban, a repülőgépiparban, a szállításban, a szénkémiai iparban és más ipari területeken.

IKS PVD cég, dekoratív bevonógép, szerszámbevonó gép, DLC bevonógép, optikai bevonógép, PVD vákuumbevonatoló sor, a kulcsrakész projekt elérhető. Lépjen kapcsolatba velünk most, e-mail:iks.pvd@foxmail.com