A PVD technológia négy folyamatlépése
Mar 02, 2022| A PVD technológia négy folyamatlépése
(1) A munkadarab tisztítása: az egyenáramú tápegység be van kapcsolva, az argongáz-izzítás argon-ion, az argon-ion bombázza a munkadarab felületét, és a munkadarab felületén lévő részecskék és szennyeződések kifröccsennek;
(2) Bevonat elgázosítása: azaz az ac csatlakoztatása után a bevonat elpárolog és elpárolog.
3. a bevonóionok kioldódása: a gázosítási forrás által szállított atomokat, molekulákat vagy ionokat az ütközést és a nagynyomású elektromos mezőt követően nagy sebességgel a munkadarabhoz kell rohanni;
(4) atomok, molekulák vagy ionok lerakódása a szubsztrátumon: a munkadarab felületén lévő párolgási ionok meghaladják a fröccsenő ionok számát, és fokozatosan felhalmozódnak, hogy a munkadarab felületéhez szilárdan tapadó bevonatréteget képezzenek.
Az ionozás részecskeionizációja után a párolgási anyag háromezer az ötezer elektronvolt kinetikus energiája, a nagy sebességű bombázási leletek, nemcsak a lerakódási sebesség gyors, és képes behatolni a felületre, mélyen a mátrix diffúziós rétegbe, az ionbevonat interfész diffúziós mélysége négy-öt mikron lenne, azaz mint a szokásos vákuumbevonat diffúziós mélysége több tucatszor, akár százszor is, így nagyon szilárdan ragaszkodnak egymáshoz.
IKS PVD cég, dekoratív bevonógép, szerszámbevonó gép, DLC bevonógép, optikai bevonógép, PVD vákuumbevonó vezeték, kulcsrakész projekt áll rendelkezésre. Vegye fel velünk a kapcsolatot most, E-mailben:iks.pvd@foxmail.com