Módszer a porlasztás lerakódás ötvözet filmek

Módszer a porlasztás lerakódás ötvözet filmek

Annak érdekében, hogy a célokat a katódporlás rendszerben használt számának csökkentése, az ötvözet vékonyrétegek, eleget tesznek az összetétel és a teljesítmény lehet készíteni sputtering lerakódás, amennyire csak lehetséges, ötvözet cél, mint egy cél kompozit mozaik cél és multi--cél sputtering.

Általánosságban elmondható, mentesítés stabil állapotban szerint a kompozíció, a cél, mindenféle alkotó atomok vannak kitéve a porlasztás hatását, porlasztás bevonat jobb párologtatással és ionbevonat, hogy: a kompozíció a film és a cél alkatrészek kevesebb különböző, és a bevonat stabil összetevői. Azonban egyes esetekben, miatt a választás a katódporlás jelenség különböző alkatrészeket, a film anti katódporlás mértéke és tapadást különbözőek, aminek hatására a film és cél alkatrészek nagy különbségek. Segítségével ez a ötvözet cél, annak érdekében, hogy a film az egyes alkatrészek, készül a cél-val különleges aránya szerint a kísérletet, és csökkenti a hőmérséklet, lehetőség szerint a cél a szubsztrát hőmérséklet is lehet csökkenti a különbözetet tapadás csökken, és a megfelelő technológiai feltételek is kiválasztva, hogy csökkentsék az anti-porlasztás hatása a film réteget, amennyire csak lehetséges.

Egyes esetekben-a ' nem könnyen elkészíthető nagy területek egységes ötvözet célokat és összetett célokat. Ebben az esetben összetett mozaik célok egyetlen részből is elfogadott. A kompozíció a cél felület látható ábra 1. mutatott-ban ábra D mozaik legyező alakú szerkezet a legjobb hatása, és ez könnyen ellenőrizhető a kompozíció, a film, és jó ismételhetőségét. Elvileg nem csak bináris ötvözetek, hanem a háromkomponensű és negyedidőszaki lehet készíteni, ezzel a módszerrel.

1. ábra összetett célokat a különböző struktúrák

(a) blokk mozaik cél; (b) kerek mozaik cél; (c) a kicsi tér mozaik cél; (d) a legyező alakú mozaik cél

Ahhoz, hogy a megfelelő alkatrész forgalmazás, a katódporlás film, a mozaik cél mint mutatott-ban ábra 2 használható. Az ábrán egy összetett cél-Al anyag fúrtak a Ti mátrix cél Ti Al N ötvözet film vagy összetett film elkészítéséhez metszett területre. Ez a szám látható hogy a film összetétele különbözik a különböző álláspontok a hordozó. Inlaying helyzete és Al anyag mennyisége megfelel a meghatározott ötvözet összetételét, így nagyon kényelmes, hogy ötvözött vagy összetett filmek különböző összetevők, ezzel a módszerrel.

2. ábra Ti Al mozaik összetett cél

Multi--cél porlasztás felépítése látható ábra 3. Összetett filmek készíti el a nyomathordozó felett két vagy több forgó és ellenőrzésére a lerakódás minden film kell egy vagy több atomi réteg. Például InSb és GaSb célokat használt in1-xgax Sb egykristály filmeket. Bár ez a készülék egy összetettebb, a membránon, bármely alkatrész szerezhető be a szubsztrát forgási sebességének és a változó a feszültség minden egyes cél. Ellenőrzésével, hogy ezeket a paramétereket, a kompozíció, a film lehet változtatni az irányba a film vastagsága, és az superlattice struktúra szerezhető be.

3. ábra vázlatos rajza, a multi--cél sputtering szerkezete

Amikor az ötvözet film összetétele jelentősen eltér, a Segéd katód általában módszer. A fő katód cél készült, a fő összetevője az ötvözet és a Segéd katód cél készült, a hozzáadott összetevő az ötvözet. Porlasztás végeztünk minden célt egyidejűleg formában ötvözet film. Módosításával a jelenlegi, a Segéd katód cél, összegét a hozzáadott összetevők az ötvözet film lehet változtatni akarata.

IKS PVD, fröcsögő beszéd lerakódás bevonatrendszer, lépjen kapcsolatba velünk most, iks.pvd@foxmail.com