A PVD vákuumbevonat technológia elve

A PVD vákuum bevonat technológia elve
A fizikai gőzleválasztás (PVD) fizikai gőzleválasztásra utal, amely vákuumgőzleválasztásból, vákuumporlasztásos leválasztásból és vákuum-ionos leválasztásból áll. Általában azt mondjuk, hogy PVD bevonat, vákuumionos bevonat és vákuumporlasztásos bevonat; Általánosságban elmondható, hogy az NCVM bevonat vákuumpárologtatásos bevonatra utal. A vákuumpárologtatás alapelve: Vákuumos körülmények között a fémek és fémötvözetek elpárolognak, majd lerakódnak az alapfelületre. A bepárlási módszert általában ellenállásfűtéssel és a bevonóanyag elektronbombázásával alkalmazzák, hogy gázfázisba párologtassák, majd lerakják a hordozó felületére. Történelmileg a vákuumpárologtatás a PVD-eljárásban használt korábbi technológia. A porlasztásos bevonófólia alapelve: töltőgáz (Ar) vákuumkörülményei között a gáz izzókisülése, majd az argon (Ar) atomok nitrogénionná (Ar), ion elektromos térerő hatására ionizálódnak, felgyorsítják a bombázást a bevonatanyagból készült katódcél, a céltárgy kiporlasztásra kerül és a munkadarab felületére kerül. A porlasztó bevonófóliában lévő incidens ionokat általában 10-2pa~10 Pa tartományban lévő izzító kisüléssel állítják elő, így a porlasztott részecskék könnyen ütközhetnek a vákuumkamrában lévő gázmolekulákkal, miközben a szubsztrátumhoz repülnek, hogy a mozgás iránya véletlenszerű legyen és a lerakódott film könnyen egyenletes legyen. Az ionozás alapelve: Vákuumos körülmények között bizonyos plazmaionizációs technológiát alkalmaznak a bevonó atomok részleges ionizálására, és ezzel egyidejűleg sok nagy energiájú semleges atomot állítanak elő, hogy negatív torzítást adjon a bevont hordozón. Ily módon a mély negatív torzítás hatására az ionok lerakódnak a hordozó felületére, és vékony filmet képeznek.

IKS PVD cég, dekoratív bevonógép, szerszámbevonó gép, DLC bevonógép, optikai bevonógép, PVD vákuumbevonatoló gépsor, a kulcsrakész projekt elérhető. Lépjen kapcsolatba velünk most, e-mail: iks.pvd@foxmail.com