Porlasztó lerakódás

· Porlasztó lerakódás

Amikor a szilárd felületen nagy energiájú részecskékkel bombázzák, a szilárd felületen lévő részecskék energiát nyerhetnek és kiszabadulhatnak a felületről, és a szubsztrátumon lerakódó porlasztásos jelenséget 1870-ben kezdték alkalmazni a filmezési technológiában, és fokozatosan alkalmazták 1930 utáni ipari termelés a megnövekedett lerakódási sebesség miatt, általában a leválasztandó anyag egy lemezes célpontba, a katódra rögzítve A szubsztrátumot közvetlenül a célfelülettel szemben, a célfelülettől néhány centiméterre az anódra helyezik, a rendszert szivattyúzzák. nagy vákuumba, majd 10~1 pa gázzal (általában argonnal) töltjük. A katód és az anód között több ezer voltos feszültség lép fel, a pólusok között pedig izzító kisülés jön létre. Kisül a pozitív ionok az elektromos térben a katódra való repülés hatására, és a célfelület atomi ütközése, a pólusok ütközése. menekülés a célfelületről porlasztó atomnak nevezett célatom, az 1-től több tucat elektronvoltig terjedő energia Porlasztó atom a szubsztrát felületén lerakódó film különböző párolgási bevonattal, porlasztó bevonat anélkül, hogy a membránanyag olvadáspontja korlátozná, Ta-porlasztás A WC Mo WC TiC és más tűzálló anyagok porlasztó keverék filmje reaktív porlasztásos módszerrel használható, vagyis az Ar gázhoz hozzáadott reakciógáz (ON HS CH stb.), reakciógáz és ionjai, valamint célatomjai vagy porlasztó atomjai reagálnak vegyületeket (például oxid-nitridet stb.) hoznak létre, és lerakódnak a hordozóra. A lerakott szigetelőfólia nagyfrekvenciás porlasztásos módszerrel használható. Cél szubsztrát a földelő elektródában, a szemközti elektródára szigetelést szerelnek fel Nagyfrekvenciás teljesítmény földelve az egyik végén, vége illesztéssel hálózati és egyenáramú kapacitás fogadott töltve szigetelőlappal szigetelő elektróda csatlakozik a nagyfrekvenciás tápegységhez, nagyfrekvenciás feszültség változó polaritású elektronok és pozitív ionok plazmája a feszültség pozitív félciklusában, illetve negatív félciklusában a cél szigeteléséhez. az elektronok mobilitása nagyobb, mint a pozitív ion, a szigetelő célfelület negatív töltésű, dinamikus egyensúlyban, a célpont negatív előfeszítési potenciálban van, így a céltárgyon porlasztó pozitív ion továbbra is magnetronporlasztást használ, a lerakódási sebességet meg tudja tenni, mint a a nem-magnetronos porlasztás csaknem egy nagyságrenddel nő

IKS PVD cég, dekoratív bevonógép, szerszámbevonó gép, DLC bevonógép, optikai bevonógép, PVD vákuumbevonatoló sor, a kulcsrakész projekt elérhető. Lépjen kapcsolatba velünk most, e-mail:iks.pvd@foxmail.com