Elektronnyaláb bepárlás alkalmazása

Elektronnyaláb bepárlás alkalmazása - TiO 2 film előállítása elektronnyaláb bepárlással

A bevonat elvileg az elektronnyaláb bepárlása TiO 2 film előállításához, az INTEGRITY-39 automatikus optikai bevonórendszer alkalmazásával, az ionnyaláb segített elektronnyaláb párologtatással, az alábbi ábra szerint.

0010010 nbsp; 1. Hűtővíz bemeneti nyílás; {{{2}}. Hűtővíz kimenet; 3. Crucible; 4. Sugártekercs; 5. Elektronnyaláb-adó; 6. Fűtési lámpa; 7. Hordozókeret; 8. A motor; 9. Felügyeleti film; 1 0. Az ionforrás bevonással előállított mintaelektron pisztoly munkafeszültsége 1 0 kV, az áram {{2}} 00 A, a vákuumkamra lerakódási hőmérséklete 1 45 ~ 1 55 ℃. Fekete szemcsés Ti 2 O 3 tisztaságú 9 9. 99% -ot választottuk a membrán anyagához. Cc - 1 05 hideg katód ionnyalábot használtunk a kiegészítő lerakódáshoz. A lerakódás során a vákuumkamrát O 2 -nel töltötték meg, tisztasága 9 9. 99% mint reakciógáz. A bevonás előtt a hordozót üvegoldattal megtisztítják, majd ionmentesítéssel öblítik 0010010 nbsp; vizet és nitrogéngázzal szárítunk. Ezután a szubsztrátumot 99. 9% acetonnal és vízmentes etanol ultrahangos hullámmal megtisztítjuk 15 percig. Speciális törlőpapírral történő szárítás után a vákuumkamrába töltik. Amikor a vákuumot mechanikus szivattyúval és diffúziós szivattyúval szivattyúzzák a {{5}} 5 × 10-4pa értékre, akkor beállítja az automatikus bevonási folyamatot. Amikor a hordozót 1 5 0 ℃ lerakódási hőmérsékletre hevítik, az ionforrás elkezdi a szubsztrátum bombázását, és az energiát {{5}} 0 ~ 9 0-on szabályozza. eV 10 percig.

ezután az elektronpisztoly automatikusan elkezdi a film anyagának felmelegedését és elpárologtatását, és a lerakódási sebesség 0. 38 ~ 0. 42 nm / s. Amikor a fóliát a tervezett vastagságra ( 440 nm) helyezik, a program automatikusan bezárja az elektronpisztolyt, és a lemezelés befejeződik. A bevonás után a vákuumkamrát természetesen szobahőmérsékletre hűtöttük és a mintát kivettük. A 2 TiO minta spektrumvizsgálatát Lambda 900 (vizsgálati tartomány 175 ~ 3 300 nm) spektrofotométerrel végeztük. A TiO 2 fólia tényleges vastagságát, kioltási együtthatóját és törésmutatóját a Macleod szoftver boríték módszerével számoltam. A különféle vákuumfokoknak a filmre gyakorolt ​​hatásay, a 2 TiO törésmutatóját és abszorpciós együtthatóját különféle nagy tisztaságú oxigénáramlásokkal vizsgáltuk a vákuumkamrába. Ha TiO 2 vékony fóliát párologtatunk le ionforrás segítségével nagy vákuum fokon, a vákuum fokának az oxigén áthaladásával történő változását az alábbi táblázat tartalmazza. Mivel a vákuumkamrában lévő oxigénmolekulák oxigénionokká ionizálódnak, és teljes mértékben reagálnak Ti {{2}} O 3 gőzmolekulákkal, a Ti {{{{4 4} lebomlásánál veszítik az oxigén. }}} O 3 feltöltésre kerül, és a kapott 2 TiO a viszonylag tiszta. Ha azonban az oxigénellátás nem elegendő, vagy a Ti {{2}} O 3 és O 2 közötti reakció nem kielégítő, akkor a nagy abszorpciós titán-oxid film tino {{{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). Az oxigénáram növekedésével növekszik a TiO 2 gőzmolekulák és az oxigénmolekulák közötti ütközés valószínűsége a párolgás folyamatában, és elveszik az energia, ami csökkenti a hordozóra felvitt TiO 2 kinetikai energiáját. felületét, és befolyásolja a lerakódott film tapadását és sűrűségét. Optikai vékony fóliák esetén az ionforrás-segéd növelheti a szubsztrát felületén levő molekulák kinetikai energiáját, nemcsak jelentős hatással van a film törésmutatójára, hanem javíthatja a film sűrűségét és nedvességállóságát, valamint a film a tapadás a hordozón szintén jelentősen javul.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com