A TiO 2 film törésmutatójának és kioltási együtthatójának kiszámítása a burkoló módszer alapján

A TiO 2 film törésmutatójának és kioltási együtthatójának a burkolás módszerén alapuló kiszámításához az anyag abszorpciós együtthatója nem lehet túl nagy, különben ez befolyásolja a filmtermék végső transzmittanciáját és csökkenti az optikai teljesítményt a termék; Ugyanakkor a törésmutatónak nem szabad túl alacsonynak lennie, különben a levágási sáv szélessége befolyásolható. A Manifacier által a 1976 -ben javasolt baoluo vonal módszer a filmréteg optikai filmparamétereinek kiszámítása azáltal, hogy a filmréteg optikai vastagságánál az átbocsátási (vagy reflexiós) extrém értéket a lambda / { {3}}. A tényleges mérés során a transzmittancia maximális T / 2 pontja és a minimális T / 4 pontja két borítékvonalat képez, Tmax () és Tmin (). Ezután a hullámhosszon a T / 2 és T / 4 transzmittancia szélsőségeket úgy határozzuk meg, hogy pontokat vesznek a boríték vonalon. Végül a filmréteg kihúzási tényezőjét és törésmutatóját kiszámoljuk az áteresztőképesség szélsőséges értékének felhasználásával, és a filmréteg vastagságát a törésmutató kiszámított értéke és a szélső pont hullámhossza alapján számoljuk ki.

A módszer mérési folyamata egyszerű, a módszer egyidejűleg képes mérni a film törésmutatóját, az extinkciós együtthatót és a mérési folyamat vastagságát, és nem kell érintkeznie a filmmintákkal, a minta védelme ideális a berendezés teszt eredményeinek mindenféle módszerének összehasonlításához, megfelelő alkalmazás esetén a film összes optikai állandójának meghatározására szolgál. A fólia n hullámhosszon mért lineáris törésmutatóját és L vastagságát a burkoló módszerrel kell kiszámítani.

Ahol:

0010010 nbsp; n0 és n 1 a levegő és az alap törésmutatója; Tmax és Tmin a maximális és minimális transzmittancia hullámhosszon; Lambda 1, lambda 2 és n (lambda 1), n (lambda 2) felel meg az átbocsátási képesség két szomszédos csúcsának vagy völgyének hullámhosszának és törésmutatójának. görbe. A TiO 2 film törésmutatóját és kioltási együtthatóját a Macleod szoftver segítségével számoltam. Amint az az alábbi a) ábrából kitűnik, a spektrumtartomány UV-látható és közeli infravörös, és az összes 4 minta törésmutatója csökken. A 1 számú törésmutatója a 400 ~ 1 000 nm-es sávban a 2 közé esik. {{15}} ~ {{4 }}. 15. A 2 és a 3 sz. Minta törésmutatója kissé magasabb volt, míg a 4 sz. Minta törésmutatója kissé alacsonyabb volt ugyanazon a hullámhosszon, a {{4} }. 45 és 2. 15. 0010010 nbsp;

A fenti (b) ábrából látható, hogy a (z) 1 sz. Minta abszorpciója nyilvánvaló, és az extinkciós együttható növekszik a spektrális tartományban az uv-látható és az uv-látható tartományban. Ismert, hogy a Ti fém olcsó oxidjait állítják elő az elégtelen oxigénellátás miatt. A 2 sz. Minta maximális transzmittanciája jelentősen javult, és az extinkciós együttható alapvetően a {{{5}} alatt volt. 5×10-3. Ábra, amely még mindig hatással volt a spektrum végső áteresztőképességére. A 3 és a 4 számú spektrumok extinkciós együtthatói 10-4 között vannak, és a spektrumok végső transzmittanciájára gyakorolt ​​hatás alapvetően elhanyagolható. Nem. 1 és a 2 hullámhosszúság extinkciós együtthatója növekszik, a másik két alap nem változik a hullámhosszon a minta extinkciós együtthatójával, a vákuum fokának feltétele mellett, nem . 1 és nem. 2 mintákkal növekszik a hullámhossz és az átviteli sebesség, mivel az oxigéntartalom túl alacsony, fém Ti képződik, és a Ti kioltási együtthatója jobb, ha növekszik a hullámhossz.

A négy minta összehasonlításával megállapítottuk, hogy az oxigénáram növekedésével a vákuumban a bevonat csökkenése és a TiO 2 film refrakciója először növekedett, majd csökkent. Az ionizációs ionforrás oxigén-ionjainak növekedése révén az oxigén-ion növekedés növeli az ion sűrűségű bombázó fóliát, sűrűbb membránréteget képez, ezáltal javítja a film törésmutatóját, amikor az oxigén töltő mennyisége tovább növekszik, A viszonylag alacsony vákuummal borító rendszer, a túlzott oxigénmolekulák és a TiO 2 membránmolekuláris ütközés csökkentette a TiO 2 membrán molekuláris kinetikai energiáját, hogy a TiO 2 vékony film molekuláris migrációja lerakódjon A sebesség csökken, a membránréteg sűrűsége tovább csökkenti a vékonyrétegek törésmutatóját. Ha kevesebb oxigén, nevezetesen a vákuumbevonó rendszer magas, szintén okokat okoz, mivel kevesebb az oxigén, akkor a 0010010 # 39 ha Ti 2 O 3 várhatóan lebomlik az oxigén oxigéntartalmának elpárologtatásánál, a bevonó film összetétele alacsony oxidtartalmú titán-oxidot tartalmaz, befolyásolja a vékonyrétegek optikai tulajdonságait, tehát a megfelelő fluxus oxigén választása a TiO 2 optikai vékony film számára a galvanizáló rendszer nagyon fontos.

IKS-OPT 2700 optikai E-pisztoly vákuumbevonó gép，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com